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產(chǎn)品展示/ Product display

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氧化鋁水性漿料分散機

氧化鋁水性漿料分散機,這種情況下要提高分散穩(wěn)定性就必須選用高品質(zhì)的分散設(shè)備,來獲得更好的物料粒徑,提高分散的均勻性,推薦GMSD2000系列研磨分散機,*的結(jié)構(gòu),膠體磨+分散機一體化設(shè)備,14000rpm超高轉(zhuǎn)速,效果好、效率高。

  • 產(chǎn)品型號:GMSD2000
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2024-07-26
  • 訪  問  量:1001
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詳細介紹

一、產(chǎn)品名稱:氧化鋁水性漿料分散機,氧化鋁水性漿料高速分散機,氧化鋁水性漿料納米分散機,氧化鋁水性漿料超細分散機,氧化鋁漿料分散機


二、氧化鋁的核心應(yīng)用


氧化鋁具有硬度高、化學(xué)穩(wěn)定性好等優(yōu)點,已被廣泛應(yīng)用在陶瓷、無機膜、研磨拋光材料等領(lǐng)域。用作分析試劑、有機溶劑的脫水、吸附劑、催化劑、冶煉鋁的原料、耐火材料。


二、氧化鋁的分散問題


近年來,已超細氧化鋁粉體研制功能陶瓷材料和新型功能復(fù)合材料受到人們的廣泛關(guān)注。但超細氧化鋁粉體比表面積大,表面活性高,單個超細顆粒往往處于不穩(wěn)定狀態(tài),顆粒之間因為相互吸引而團聚,易于失去超細粉體*的性能,因此超細氧化鋁粉體的分散,是超細氧化鋁粉體走向?qū)嵱没年P(guān)鍵。




在水溶液中,氧化鋁漿料中的亞微米機微粒由于受靜電引力等作用發(fā)生團聚,出現(xiàn)絮凝,分層等現(xiàn)象,破壞漿料的分散穩(wěn)定性。為此漿料的分散穩(wěn)定性成為人們研究的重點。影響穩(wěn)定性的因素有很多,如:分散劑種類及用量、分散設(shè)備的選擇、粉體的粒度及表面性質(zhì)、PH值、溫度等。


當(dāng)物料工藝確定后,影響分散穩(wěn)定性的*因素就是漿料中粒子的半徑,半徑越小,沉降越慢、穩(wěn)定性越高。這種情況下要提高分散穩(wěn)定性就必須選用高品質(zhì)的分散設(shè)備,來獲得更好的物料粒徑,提高分散的均勻性,推薦GMSD2000系列研磨分散機,*的結(jié)構(gòu),膠體磨+分散機一體化設(shè)備,14000rpm超高轉(zhuǎn)速,效果好、效率高。



四、氧化鋁水性漿料分散設(shè)備推薦


結(jié)合多家化工企業(yè)案例,我司推薦GMSD2000系列研磨式超高速分散機進行氧化鋁的研磨和分散,一般可獲得超細的物料粒徑,一般為2μm左右。當(dāng)然還要看具體的物料工藝,以及原始狀態(tài)。




五、SGN氧化鋁水性漿料分散機結(jié)構(gòu)


,是由膠體磨和分散機組合而成的設(shè)備,轉(zhuǎn)速高達14000rpm,強大的剪切力。膠體磨磨頭配合分散機分散盤,先研磨后分散。這種特殊的設(shè)計的優(yōu)勢在于,粒子細化之后容易出現(xiàn)絮凝現(xiàn)象,所以此時分散十分重要,而砂磨機難以分散。

GMD2000系列研磨分散設(shè)備是SGN(上海)公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品,該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將高剪切均質(zhì)乳化機進行改裝,我們將三層變更為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過膠體磨細化物料,然后再經(jīng)過乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)。


六、選型表

型號

流量

L/H

轉(zhuǎn)速

rpm

線速度

m/s

功率

kw

入/出口連接

DN

GMSD2000/4

300

14000

44

4

DN25/DN15

GMSD2000/5

1000

10500

44

11

DN40/DN32

GMSD2000/10

2000

7200

44

22

DN80/DN65

GMSD2000/20

5000

2850

44

37

DN80/DN65

GMSD2000/30

8000

1420

44

55

DN150/DN125

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