氧化鎂在線高剪切研磨分散機,實驗室*小型設備：

研磨分散機由1-3個工作腔組成，在馬達的高速驅(qū)動下，物料在轉(zhuǎn)子與定子之間的狹窄間隙中高速運動，形成紊流，物料受到更強液力剪切、離心擠壓、高速切割、撞擊和研磨等綜合作用，從而達到分散、乳化、破碎的效果。被加工物料本身和物理性質(zhì)和工作腔的數(shù)量以及控制物料在工作腔中停留的時間決定了粒徑分布范圍及均化、細化的效果和產(chǎn)量的大小。

GMSD2000系列是專門為膠體溶液生產(chǎn)所設計，特別是那些需要很好乳化和分散效果的膠體生產(chǎn)。GMSD2000的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

SID膠體磨與國內(nèi)膠體磨的性能比較：

一、轉(zhuǎn)速和剪切速率：

SID膠體磨，可選擇德國機械密封，轉(zhuǎn)速可以達到15000轉(zhuǎn)    

F=23/0.7X1000=32857 S-1  

F=40/0.7/X1000=57142 S-1                      

國內(nèi)膠體磨，可選擇機械密封一般3000轉(zhuǎn)，大約在14293-215440 S-1

通過轉(zhuǎn)速比較可知，這是粉碎研磨的重要因素，相當于前者是后者的2-3倍

 二、膠體磨頭和間距：

SID膠體磨，可以選擇六種不同的模塊頭，實現(xiàn)多種功能，如三級乳化模塊，速模塊，膠體模塊，批次粉液液混合模塊，連續(xù)粉液混合模塊。

間距可調(diào)，可實現(xiàn)1-10微米小粒徑材料加工

國內(nèi)膠體磨，只有一種模塊頭，粒徑細度有限，100微米以下較困難，重復性差

三、機械密封：

SID膠體磨，雙機械密封，易于清洗，將泄漏降至*低，可24小時不停運轉(zhuǎn)

國內(nèi)膠體磨，單機械密封或軸封，泄漏故障率高，產(chǎn)品泄漏進入馬達，造成馬達燒毀

四、清洗：

SID膠體磨，立式，皮帶驅(qū)動，易于維護，可有效保護馬達及齒輪箱，防止損壞,符合流體流動原理，具有CIP/SIP在線清洗，在線殺菌功能，無需拆卸，機器設計立式結構符合流體原理，清洗更簡便

國內(nèi)膠體磨，臥式或立式（馬達一體式），軸承部分受力較大，易于損壞，維護保養(yǎng)復雜，

通常情況，需要拆卸機器進行清洗

膠體磨內(nèi)部結構及分析：

粉碎室設有三道磨碎區(qū)，為粗磨碎區(qū)，二級為細磨碎區(qū)，三層為超微磨碎區(qū)，通過調(diào)整定、轉(zhuǎn)子的間隙，能有效地達到所需的超微粉碎效果（也可循環(huán)加工）。

 研磨分散機du有的優(yōu)點

◆ 處理量大，適合工業(yè)化在線連續(xù)生產(chǎn)；
◆ 粒徑分布范圍窄，勻度高；
◆ 省時、高效、節(jié)約能源；
◆ 精密鑄造的整體式機架和經(jīng)精密動平衡測試的每道轉(zhuǎn)子，確保整機運行噪音低，運轉(zhuǎn)平穩(wěn)；
◆ 消除批次間生產(chǎn)的品質(zhì)差異；
◆ 物料100%通過粉碎分散剪切；
◆ 具有短距離、低揚程輸送功能；
◆ 使用簡單，維修方便；
◆ 可實現(xiàn)自動化控制；
◆ 集裝式機械密封，保證物料無泄漏；
◆ 單機處理量從1～120m3/h。

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